10月第一个交易日开门红，符合我们节前的预判。经过9月份的缩量调整，大盘本月将重回上涨周期。
周五盘面最强的是光伏板块。受到各国政府的大力支持以及技术的进步，原先光伏行业受制于高成本的问题得到解决，目前很多地方的上网电价已经可以实现平价上网。
光伏行业核心驱动力就是新能源替代，这是大势所趋，不可阻挡，我国光伏的发展将被写入十四五规划，根据国家能源局的规划，2021年要实现全面的平价上网。平价上网之后，国家补贴取消，市场因素开始起作用，光伏行业从周期性行业转为成长性行业，空间和估值将重新定义。
光伏产业链很长，上游是硅料，然后经过提纯、拉棒、切片等一系列工艺制成硅片，再然后硅片组装成组件，最后加上逆变器，高低压设备等组成光伏发电系统并网发电。
今天我们重点分享一支光伏细分赛道市场占有率超50%的稀缺资产-捷佳伟创。
捷佳伟创是国内电池片工艺设备龙头，不仅提供覆盖全产业链六大产品系列，还提供晶硅电池“交钥匙工程”系统解决方案等辅助服务，客户覆盖国内外大多数电池厂商，包括隆基、通威、晶科能源、天合集团等知名光伏企业，市场占有率超过50%。
捷佳伟创近期拟定增募资25亿元，用于超高效太阳能电池装备产业化项目和先进半导体装备研发项目。随着本次项目的稳步推进，公司有望新增年产20GWPerc+高效新型电池湿法设备，新增20GWHJT超高效新型电池湿法设备以及单层载板式非晶半导体薄膜CVD产能，并新增年产50套HJT电池镀膜设备。
同时公司加大半导体设备投入，专注于Cassette-Less刻蚀设备和单晶圆清洗设备技术的改进与研发，以及化学气相沉积设备等多种炉管类设备改进与研发。
硅片大型化趋势明显，182、210硅片催生存量产线改造升级换代需求。据知名机构预计，到2021年，182尺寸电池片产能将新增接近46GW，210尺寸电池片产能新增接近49GW，捷佳伟创作为行业龙头有望深度受益。
从行业发展趋势来看，N型硅片少子寿命更高、光衰率更低，有望接替P型成为下一代技术方向，当前主流技术包括N-Pert、TopCon、异质结和IBC四大方向，捷佳伟创在TopCON、HJT和PERC+等技术方面陆续取得突破，具体来看：
1、PERC结构升级有望突破转换效率瓶颈，目前捷佳伟创PERC+电池工艺技术钝化设备研发已进入工艺验证阶段。
2、TopCon电池理论极限效率为28.7%，高于异质结和PERC，而且现有产线可升级改造至TopCon产能，捷佳伟创LPCVD设备获得突破，加速TopCon产能降本，其产能渗透率有望提升。
3、捷佳伟创新一代HJT关键量产设备RPD5500A今年9月完成厂内装配调试，有望在常规HJT基础上为高效HJT带来保守0.6%以上效率增益，二合一的PAR5500设备即将推出，将大幅降低设备成本。另外非晶硅镀膜设备也研发之中，若成功将进一步解决业内痛点。
预计捷佳伟创2020~2022年实现归属母公司净利润5.68/9.11/11.35，对应PE59.5/37.1/29.7倍，公司有望在新一轮技术周期中享受估值溢价。
